南大光电:自主研发的ArF光刻胶产品再次通过客户认证来源:中国半导体行业协会发布时间:2021-06-03询问 AI南大光电公告,自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后,近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。新闻来源:中国半导体行业协会,文中所述为作者独立观点,不代表icspec立场。更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj。