导读：近日，国内半导体设备龙头中微公司宣布在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付客户庆祝仪式。
图：中微公司的Primo nanova设备
据介绍，Primo nanova是中微公司于2018年正式发布的第一代电感耦合等离子体12寸刻蚀设备，适用于1X纳米及以下的逻辑和存储器件的刻蚀应用。
该设备采用了中微公司具有自主知识产权的电感耦合等离子体刻蚀技术，具有对称的反应腔、超高分子泵抽速、独特的低电容耦合线圈设计和多区细分温控静电吸盘等创新特性。
目前，中微公司Primo nanova产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线，在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。
同时，中微公司第100腔Primo nanova刻蚀设备的交付既是ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑，也标志着中微公司乃至国产半导体刻蚀设备发展迈入新的阶段。
