告急！日本光刻胶断供中国！

大事不断！近日消息，传日本光刻胶断供中国多家晶圆厂！

5月27日，据产业媒体报道，由于日本信越化学KrF光刻胶产能不足等原因，导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张，部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现了断供！中芯国际、华宏、士兰微等晶圆厂或无原材料可用！！

半导体光刻胶是光刻过程的关键耗材，光刻胶的质量和性能对光刻工艺有着重要影响，因其技术壁垒高而长期被海外大厂所主导，是半导体国产化的一道大坎。

据悉，信越化学之所以停止供货部分晶圆厂KrF光刻胶，与数月前日本福岛东部海域发生7.3级地震有莫大关联。半导体光刻胶是光刻过程的关键耗材，光刻胶的质量和性能对光刻工艺有着重要影响，因其技术壁垒高而长期被海外大厂所主导，是半导体国产化的一道大坎。

据报道，由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等，占据全球光刻胶市场份额超两成的日本供应商信越化学已经向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶，且已通知更小规模晶圆厂停止供货KrF光刻胶。

业内人士表示，未来国内多家晶圆厂或将面临KrF光刻胶大缺货的处境。

根据SEMI数据，日本几大厂商在g线/i线、KrF、ArF胶市场中市占率分别为61%、80%、93%，而国内g线/i线自给率约为20%，KrF光刻胶的自给率不足5%，12寸硅片的ArF光刻胶目前尚无国内企业可以大规模生产。根据智研咨询预测，2022年中国大陆半导体光刻胶市场空间将会接近55亿元，是2019年的两倍。

以日本半导体光刻胶发展史为鉴，中国国产半导体光刻胶迎来发展良机。上市公司中，晶瑞股份KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25-0.13μm的技术要求，i线光刻胶近年已向中芯国际等企业供货。上海新阳开发的365nm I线、248nm KrF、193nm ArF干法及湿法光刻胶可适应国内0.35-0.11微米、90-28纳米芯片工艺技术节点的需求。南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，已完成的产线设计产能为25吨。